cible de dépôt par sputtering

Les cibles de dépôt par sputtering sont des matériaux exotiques utilisés dans un procédé appelé sputtering, au cours duquel de fines couches sont déposées sur des surfaces. Cette technologie est utilisée pour fabriquer des objets tels que des puces d'ordinateur, des panneaux solaires et des lunettes !

Le sputtering est un procédé de revêtement d'une surface avec une couche ultramince de matériau en bombardant le matériau avec des ions à haute énergie. Les cibles de sputtering sont fabriquées à l'aide de métaux élémentaires tels que l'aluminium, le cuivre ou le titane. Lorsque des particules à haute énergie frappent ces cibles dans une chambre sous vide, elles libèrent des atomes, qui adhèrent à la surface de ce qui est en train d'être recouvert.

Le rôle des cibles d'éclatement dans le dépôt de couches minces

Le cible d'éclatement de chrome est extrêmement essentiel pour le dépôt de couches minces, qui est un processus où le matériau est déposé en couches fines sur les surfaces. Cela permet aux appareils électroniques de fonctionner efficacement et, dans des produits tels que les vitres de fenêtres et les pièces automobiles, peut améliorer la résistance et les performances.

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