sputtering célpont

A szórási célpontok exotikus anyagok, amelyeket a szórás nevű folyamatban használnak, ahol vékony rétegeket hajtanak fel felületekre. Ez a technológia használatos olyan dolgok gyártásában, mint a számítógépes processzorok, a napenergiapanelek és az óvkövek!

A szórás egy folyamat, amely során anyag ultravékony réteget hoz létre egy felület fedezésére, amikor magas-energiás ionokkal bombázzák az anyagot. A szórási célpontokat elemi fémekből, például alumíniumból, rézkből vagy titanból építik. Amikor magas-energiás részecskék ütköznek ezekkel a célpontokkal egy vakuumkamarában, atomokat bocsátanak fel, amelyek rágódnak a felületre, amit fednek.

A szputerelési célpontok szerepe a vékony filámest intezésében

A cróm szóró célértékelés nagyon fontos a vékony filámest intezés során, ami egy olyan folyamat, amiben anyagot vékony rétegekbe helyeznek fel felületekre. Ez segít elektromos eszközök hatékony működésében, és termékekben, például üveges ablakokban és autóreszekben, növelheti a erősséget és a teljesítményt.

Why choose TMC METAL sputtering célpont?

Kapcsolódó termékkategóriák

Nem találod, amit keresel?
Kérjen több terméket a tanácsadóinktól.

Kérjen árajánlatot most

Vegye fel a kapcsolatot