target Sputtering

Target sputtering adalah bahan eksotis yang digunakan dalam proses yang disebut sputtering, di mana lapisan tipis didepositkan ke permukaan. Teknologi ini digunakan untuk membuat hal-hal seperti chip komputer, panel surya, dan kacamata!

Sputtering adalah proses pelapisan permukaan dengan lapisan material ultratipis dengan memancarkan material tersebut menggunakan ion berenergi tinggi. Target sputtering dibuat menggunakan logam elemen seperti aluminium, tembaga atau titanium. Ketika partikel berenergi tinggi mengenai target-target ini dalam ruang hampa, mereka melepaskan atom-atom yang menempel pada permukaan apa yang sedang dilapisi.

Peran target sputtering dalam penyetoran lapisan tipis

The chromium sputtering target sangat penting untuk penyetoran lapisan tipis yang merupakan proses di mana material didepositkan ke permukaan dalam lapisan tipis. Ini membantu perangkat elektronik bekerja secara efektif dan, pada produk seperti jendela kaca dan bagian mobil, dapat meningkatkan kekuatan dan kinerja.

Why choose TMC METAL target Sputtering?

Kategori produk terkait

Tidak menemukan apa yang Anda cari?
Hubungi konsultan kami untuk produk tersedia lebih banyak.

Ajukan Penawaran Sekarang

HUBUNGI KAMI