Target sputtering adalah bahan eksotis yang digunakan dalam proses yang disebut sputtering, di mana lapisan tipis didepositkan ke permukaan. Teknologi ini digunakan untuk membuat hal-hal seperti chip komputer, panel surya, dan kacamata!
Sputtering adalah proses pelapisan permukaan dengan lapisan material ultratipis dengan memancarkan material tersebut menggunakan ion berenergi tinggi. Target sputtering dibuat menggunakan logam elemen seperti aluminium, tembaga atau titanium. Ketika partikel berenergi tinggi mengenai target-target ini dalam ruang hampa, mereka melepaskan atom-atom yang menempel pada permukaan apa yang sedang dilapisi.
The chromium sputtering target sangat penting untuk penyetoran lapisan tipis yang merupakan proses di mana material didepositkan ke permukaan dalam lapisan tipis. Ini membantu perangkat elektronik bekerja secara efektif dan, pada produk seperti jendela kaca dan bagian mobil, dapat meningkatkan kekuatan dan kinerja.
Target sputtering membuat lapisan tipis yang kuat dan tahan aus. Target sputtering yang berbeda digunakan, dan proses sputtering dapat dimodifikasi untuk menyesuaikan lapisan tersebut sesuai dengan tujuan tertentu. Hal ini memungkinkan bahan digunakan dalam produk di mana bahan tersebut perlu diperkuat, dibuat lebih konduktif, atau lebih mengkilap, sesuai kebutuhan.
Kemajuan terbaru dalam bahan target sputtering Dalam beberapa tahun terakhir, telah ada perkembangan menarik dalam penggunaan (U)HVOF dan mikrofon untuk pekerjaan seismik yang telah dikembangkan. Misalnya, oksida timbal-indium (ITO) sekarang secara damai membentuk layar elektronik fleksibel, dan paduan seperti nikel-kromium (NiCr) juga eksis dalam lapisan yang tahan korosi pada perangkat medis.
Chip komputer merupakan salah satu penggunaan terpenting dari target sputtering. Lapisan film tipis harus diterapkan pada peralatan semikonduktor agar dapat berfungsi. Mereka dapat membuat lapisan ini dengan sangat akurat, dan perangkat bekerja dengan baik, secara andal.