TMCメタル

信頼できるラベルにより提供される高純度 3N ジルコニウム スパッタリング ターゲットを提供します。

精密さを追求して開発され、さまざまなスパッタリング処理や層に最適です。純度は加速レベルで 99.95% の純度を誇り、堆積方法が正確で信頼できることを保証します。

最高級の製品と、より高水準の戦略で作られたこの製品は、頑丈です。その並外れた保温性TMCメタル 導電性により確実に熱を放散でき、スパッタリングコストが削減されるため、コンポーネントの廃棄が最小限に抑えられます。

電子機器、医療機器、航空宇宙など、幅広い用途に機能的かつ適しています。酸化物や窒化物などの薄膜の製造や、導電層や反射層の堆積によく使用されます。

当社チームは、信頼性と製品の一貫性の重要性を認識しています。そのため、当社の高純度 3N ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、厳格な品質保証手順の下で製造されていると確信しています。各製品は、当社から出荷される前に徹底的に検査およびチェックされ、すべてのビジネス ニーズを満たすことが保証されます。 

当社では、お客様のニーズを満たすために幅広い選択肢を用意しています。当社の専門家チームは、お客様と協力し、お客様の固有のニーズに合わせてカスタマイズされた製品を作成することもできます。

TMC METAL の高純度 3N ジルコニウム スパッタリング ターゲットは、信頼性の高い最高級の製品で、仕上げプロセスとスパッタリングの効率と信頼性を簡単に強化できます。高純度レベル、優れた熱伝導性、柔軟性に加え、コスト削減と効率の向上で報われる投資です。高純度 3N ジルコニウム スパッタリング ターゲットが貴社のビジネスにどのように役立つかについて詳しくは、今すぐ当社にお問い合わせください。