스퍼터링 타겟은 스퍼터링이라는 과정에서 사용되는 이국적인 물질로, 얇은 층을 표면에 씌우는 데 사용됩니다. 이 기술은 컴퓨터 칩, 태양광 패널, 안경 등 다양한 제품을 만드는 데 사용됩니다!
스퍼터링은 고에너지 이온으로 물질을 폭발시켜 표면에 초박형 물질 층을 코팅하는 과정입니다. 스퍼터링 타겟은 알루미늄, 구리 또는 티타늄과 같은 원소 금속을 사용하여 제작됩니다. 진공 챔버에서 고에너지 입자가 이러한 타겟에 충돌하면 원자가 방출되어 코팅 대상의 표면에 부착됩니다.
그 크롬 스퍼터링 타겟 박막 증착 공정에서 매우 필수적이며, 이는 물질을 얇은 층으로 표면에 침착시키는 과정입니다. 이는 전자 장치가 효과적으로 작동하도록 도와주며, 유리 창문 및 자동차 부품과 같은 제품에서는 강도와 성능을 향상시킬 수 있습니다.
스퍼터링 타겟은 마모에 강한 얇은 코팅을 형성합니다. 다양한 스퍼터링 타겟이 사용되며, 스퍼터링 프로세스는 특정 목적에 맞게 코팅을 맞춤화하기 위해 수정될 수 있습니다. 이는 재료가 필요에 따라 강화되거나 더 도전성이 높아지거나 더 반짝이는 제품에서 사용될 수 있도록 합니다.
최근 몇 년간 (U)HVOF와 지진 연구용 마이크로폰의 사용에 있어 흥미로운 발전이 있었습니다. 예를 들어, 인듐 주석 산화물(ITO)은 이제 유연한 전자 디스플레이를 형성하며, 니켈-크롬(NiCr)과 같은 합금도 의료 기기에서 부식에 저항하는 코팅으로 공존합니다.
컴퓨터 칩은 스퍼터링 타겟의 가장 중요한 용도 중 하나입니다. 반도체 장비에는 작동하기 위해 필름 코팅이 적용되어야 합니다. 이러한 코팅을 매우 정확하게 만들 수 있으며, 장치는 신뢰성 있게 잘 작동합니다.
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