Sputtering targets သည် sputtering ဟုခေါ်သောလုပ်ငန်းတွင်အသုံးပြုသည့် မူရင်းကိုယ်စားပြုမှုများဖြစ်သည်၊ ထို့နောက် အများအပြားသော ဆင်းရိုးများကို မျက်နှာပြင်များပေါ်တွင် ဆွဲဆောင်သည်။ ဒီဇာတ်ကွဲသည် computer chips၊ solar panels နှင့် eyeglasses စသည်တို့ကို ဖန်တီးရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။
Sputtering သည် အများအပြားသော အရာဝတ္ထုများကို မူရင်းကိုယ်စားပြုမှုဖြင့် အများအပြားသော အရာဝတ္ထုများကို မျက်နှာပြင်များပေါ်တွင် ဆွဲဆောင်ရန်အတွက် အသုံးပြုသည့် လုပ်ငန်းဖြစ်သည်။ Sputtering targets များသည် aluminum၊ copper သို့မဟုတ် titanium စသည့် အခြေခံ meta များဖြင့် ဖန်တီးထားသည်။ အမြင့်စွမ်းအင်ပါတီကျွန်းများသည် အားလုံးကို vacuum chamber ထဲတွင် ထိတွေ့လိုက်ပြီး၊ ဒီမှာကို coating လုပ်နေသော အရာဝတ္ထု၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အက်တမ်များကို ဆက်လက်ထားသည်။
၎င်း ခရိုမီယမ် sputtering target သည် ပိုင်းဆိုင်သော အရောင်းအဝယ်များကို ပိုင်းဆိုင်သော အပြင်များသို့ သိုးခြင်းလုပ်ငန်းတွင် အရေးကြီးသည်။ ဤသည် အီလက်ထရွန်စက်များအတွက် အလုပ်လုပ်ခြင်းကို မျှော်လင့်စေပြီး၊ မျက်နှာပြင်ခြောက်များနှင့် ကားပစ္စည်းများတွင် အစိုးရောင်းနှင့် အလုပ်လုပ်ခြင်းကို တိုးတက်စေသည်။
Sputtering targets သည် အခြေအနေများကို ရောင်းချနိုင်သော ပြင်ဆင်ထားသော အပြင်များကို ဖန်တီးပါသည်။ မတူညီသော sputtering targets များကို အသုံးပြုပြီး၊ အဓိကအတွက် coating ကို ပြုလုပ်ရန် sputtering process ကို ပြောင်းလဲနိုင်သည်။ ဒါဟာ ပစ္စည်းများတွင် အသုံးပြုရန် အလိုအလျောက် strengthening သို့မဟုတ် conductive သို့မဟုတ် shiny ဖြစ်စေရန် material ကို အသုံးပြုနိုင်စေပါသည်။
ပြီးခဲ့သော နှစ်များအတွင်း sputtering target materials တွင် ရှိနေသော progress များကို တွေ့ရှိခဲ့ပါသည်။ (U)HVOF နှင့် microphone တို့ကို seismic work အတွက် ဖြစ်စေရန် ဖော်ပြခဲ့ပါသည်။ ဥပမာအားဖြင့် indium tin oxide (ITO) သည် flexible electronic displays တွင် အခြေခံဖြစ်ပြီး၊ corrosion resistant coatings တွင် nickel-chromium (NiCr) အဖြစ်ဖြစ်သည်။
Computer chips သည် sputtering targets အသုံးပြုခြင်း၏ အရေးကြီးဆုံးအသုံးများအနက်တစ်ခုဖြစ်သည်။ semiconductor equipment တွင် thin film ကို အသုံးပြုရန်လိုအပ်ပါသည်။ သူတို့သည် ဒီ coatings ကို အလွယ်တကူ ပြုလုပ်နိုင်ပြီး၊ အပ်ပ်ရေးကို မှန်ကန်စွာ လုပ်ဆောင်နိုင်ပါသည်။