alvo de Magnetron

Os alvos de sputtering são materiais exóticos usados em um processo chamado sputtering, no qual camadas finas são depositadas sobre superfícies. Essa tecnologia é usada para fabricar coisas como chips de computador, painéis solares e óculos!

Sputtering é um processo de revestimento de uma superfície com uma camada ultrafina de material bombardeando o material com íons de alta energia. Os alvos de sputtering são construídos usando metais elementares como alumínio, cobre ou titânio. Quando partículas de alta energia atingem esses alvos em uma câmara de vácuo, elas liberam átomos, que aderem à superfície do que está sendo revestido.

O papel dos alvos de pulverização em deposição de filmes finos

O alvo de esputeração de cromo é altamente essencial para a deposição de filmes finos, que é um processo onde o material está sendo depositado nas superfícies com camadas finas. Isso ajuda dispositivos eletrônicos a funcionarem eficazmente e, em produtos como janelas de vidro e peças de carro, pode melhorar a resistência e o desempenho.

Why choose TMC METAL alvo de Magnetron?

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